团簇型多室CVD沉积系统

应用范围:

主要用于非晶硅太阳能电池的研究和制作

技术特点:

主要用于非晶硅太阳能电池的研究和制作

描述

应用范围:

主要用于非晶硅太阳能电池的研究和制作

技术特点:

主要用于非晶硅太阳能电池的研究和制作

主要技术参数:

技术参数Parameter
真空室尺寸

Vacuum chamber size

主真空室尺寸:Server chamber Φ760×270mm
工作真空室尺寸:

Workstation chamber

PECVD室 250×250×300mm
VHFCVD室 510×250×300mm
HWCVD室 550×250×300mm
进出片室尺寸;Loading chamber 250×286×300mm
主真空室工位数:

Server position of server chamber

6
工作真空室数:

Number of Workstation chamber

5
真空系统

Vacuum system

传输室:Server chamber F150+D30C
工作真空室:

Workstation chamber

F100+D30C
进出片室:Loading chamber D30C
极限压力

Ultimate pressure

传输室:Server chamber 5×10-4Pa
工作真空室:

Workstation chamber

5×10-5Pa
进出片室:Loading chamber 5×10-1Pa
工件尺寸

Substrate size

工件最大尺寸:

Maximum diameter

100×100mm
工件最大重量:Maximum weight 2kg
最大同时处理数量:

Maximum loading capacity

4
操作

Operation

全自动+计算机流程控制

Fully automatic computer control

PLC控制

PLC control

气路控制系统

Gas system

全套进口件气路  16路进口流量计  进口变通导阀门

9路气体(N2、Ar、SiH4、NH3、NOX、TMB、B2H6、CH4、CO2)

Imported gas path,16-ways imported MFC,imported alterable valve 9 routes

(N2、Ar、SiH4、NH3、NOX、TMB、B2H6、CH4、CO2 )

联系信息

北京市大兴工业开发区高米店 盛坊路仪器仪表基地

电话: 010-60250520、010-60250572

传真: 010-60250572