JPGF系列镀膜机

应用范围:

适用于镀制单层膜、合金膜及多层膜

技术特点:

配备DCRF磁控溅射靶,可实现单靶溅射、DC/RF共溅等工艺模式

描述

应用范围:

适用于镀制单层膜、合金膜及多层膜

技术特点:

配备DCRF磁控溅射靶,可实现单靶溅射、DC/RF共溅等工艺模式

主要技术参数:

型号

参数

JPGF-400 JPGF-450 JPGF-700
溅射室尺寸(内径×高度) Φ400×250 Φ450×270 Φ700×350
溅射方向 由下往上(或由上往下)
真空室顶盖提升 电动
极限压力/Pa 8×10-5
抽气时间/min 从1×105 Pa至2×10-3Pa≤20
溅射工作压力/Pa 10 ~10-1
真空系统 分子泵系统 气动阀门
溅射靶尺寸/mm Φ60 Φ80 Φ100或Φ150
溅射靶数量/套 3
溅射靶电源 射频 功率/W 500 1000 1000
数量/套 1
直流 功率/W 1000 2000 4000
数量/套 1
工件旋转/r·min-1 5 ~ 25
工件盘直径/mm Φ350 Φ400 Φ600
烘烤温度/℃ 室温~ 300℃ (可调)
工艺气体控制方式 一套质量流量控制器,一套自动压强仪
冷却水流量/L·min-1 ~ 15 ~ 20
水压/kPa ≤25
进水温度/℃ ~ 2.5×105
压缩空气/kPa (5 ~ 8)×105
用电功率/kW 9 10 20
占地面积/mm 2000×1800×1900 2000×1800×1900 2000×2000×2100

联系信息

北京市大兴工业开发区高米店 盛坊路仪器仪表基地

电话: 010-60250520、010-60250572

传真: 010-60250572