XJPD-900双端磁控溅射镀膜机

///XJPD-900双端磁控溅射镀膜机

XJPD-900双端磁控溅射镀膜机

应用范围:

本设备应用真空溅射原理,在基体上制备各种金属膜、合金膜、化合物膜、介质膜等等,所制膜层具有致密、针孔少、低温成膜、附着力强等优点。本设备适用于实验室的薄膜研究和小批量生产。

描述

应用范围:

本设备应用真空溅射原理,在基体上制备各种金属膜、合金膜、化合物膜、介质膜等等,所制膜层具有致密、针孔少、低温成膜、附着力强等优点。本设备适用于实验室的薄膜研究和小批量生产。

联系信息

北京市大兴工业开发区高米店 盛坊路仪器仪表基地

电话: 010-60250520、010-60250572

传真: 010-60250572